高光镀膜工艺
更新时间：2024-05-13 20:59:42 字号：T|T
薄镀工艺主要特点：
适用手机电池盖类型产品，产品表面高光体现高光效果。外观体现陶瓷、光学镀效果。
难度系数：高难度.
难度特点：镀膜过程中易出现上、中、下颜色差异，产品侧面与正面易出现颜色差异，膜厚约60-80UM.
解决方案：通过调整镀膜机参数，及调整铟锡材料控制。（技术因素70%，材料因素30%）
